Маска после чистки ANGIOPHARM, 75 мл

Маска оказывает выраженное антисептическое, противовоспалительное и успокаивающее действие, насыщает кожу минералами и микроэлементами, способствует очищению пор, выравнивает тон и текстуру кожу, корректирует воспалительные элементы. Компоненты, входящие в состав, ускоряют процесс регенерации, устраняют зуд и эритему, поддерживают естественную микробиоту кожи, нормализуют процесс кератинизации и придают коже здоровое сияние. Маска рекомендована к применению после процедуры профессиональной чистки лица

Каолин оказывает сорбирующее, антисептическое, успокаивающее и противовоспалительное действие, насыщает кожу минералами и микроэлементами, способствует очищению пор, выравнивает тон кожи и ускоряет процесс регенерации

Оксид цинка оказывает себорегулирующее, анисептическое, противовоспалительное и абсорбирующее действие, успокаивает кожу, снимает зуд и эритему, корректирует воспалительные элементы, способствует очищению пор

Сера оказывает выраженное противовоспалительное, антибактериальное, противогрибковое и себорегулирующее действие, уменьшает раздражение и эритему, корректирует гиперкератоз, благодаря взаимодействию с цистеином в кератиноцитах, что способствует нормальному процессу кератинизации кожи

Биотический комплекс - благодаря увеличению бактериального разнообразия, улучшает баланс микробиоты, снижает рост C. acnes, усиливает естественную защиту и микробиологический барьер, придает здоровое сияние, способствует уменьшению поверхностных морщин и выравниванию текстуры кожи

Sebustop®UP оказывает выраженное антимикробное, противовоспалительное, антиоксидантное, успокаивающее и детоксицирующее действие, ускоряет процесс регенерации кожи, уменьшает себопродукцию, сужает и очищает поры

Аллантоин,

Масло манго,

Сок листьев алоэ,

Растительный экстракт корня ластовеня черноватого,

Комплекс растительных экстрактов (ромашка, шиповник, мята, шалфей),

Экстракт прополиса,

Эфирное масло чайного дерева,

Масло лаванды,

Витамин Е

Нанести на предварительно очищенную на кожу лица, исключая периорбитальную область. Время экспозиции 15 минут. Остатки удалить влажными дисками. Возможно применение после мануальной или аппаратной чистки лица

Только для наружного применения.

Не использовать при индивидуальной непереносимости какого-либо компонентов